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描述(Description) 169个字符 E尊国际清科先进CMP设备基础上,根据行业前沿技术需求开发的领先型12英寸CMP设备。该设备基于E尊国际清科自主知识产权的创新技术,配备性能优越的抛光单元,集成多种终点检测技术,并搭载更先进的组合清洗技术,展现出更卓越的清洁效果。该设备可实现晶圆纳米级全局平坦化,满足先进制程技术需求,已在集成电路、先进封装、大硅片等制造工艺中批量应用。 一般不超过200个字符
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